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      聚焦離子束掃描電子顯微鏡係統的原理和功能介紹

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      聚焦離子束掃描電子顯微鏡(Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope,簡稱FIB-SEM)雙束係統是指同時具備聚焦離子束(FIB)和掃描電子顯微鏡(SEM)功能的係統。

      係統原理:首先離子源產生離子束被聚光鏡彙聚為極細的聚焦離子束,聚焦離子束通過控製線圈控製對指定的位置進行加工刻蝕;電子源產生電子束被聚光鏡彙聚為極細的聚焦電子束,聚焦電子束通過掃描線圈對樣品進行掃描,獲得各個被加工位置的實時圖像,從而實現對加工過程的實時監控。

      聚焦離子束掃描電子顯微鏡主要功能包括:

      ①電子束成像,用於定位樣品、獲取微觀結構和監測加工過程;

      ②離子束刻蝕,用於截麵觀察和圖形加工;

      ③氣體沉積,用於圖形加工和樣品製備;

      ④顯微切割製備微米大小納米厚度的超薄片試樣(厚度小於<100 nm),用於後續的TEM和同步輻射STXM等相關分析;

      ⑤顯微切割製備納米尺寸的針尖狀樣品,用於後續的APT分析,獲取其微量元素和同位素信息;

      ⑥綜合SEM成像、FIB切割及EDXS化學分析,對試樣進行微納尺度的三維重構分析等。

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