聚焦離子束掃描電子顯微鏡係統的原理和功能介紹

聚焦離子束掃描電子顯微鏡（Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope,簡稱FIB-SEM）雙束係統是指同時具備聚焦離子束（FIB）和掃描電子顯微鏡（SEM）功能的係統。

係統原理：首先離子源產生離子束被聚光鏡彙聚為極細的聚焦離子束，聚焦離子束通過控製線圈控製對指定的位置進行加工刻蝕；電子源產生電子束被聚光鏡彙聚為極細的聚焦電子束，聚焦電子束通過掃描線圈對樣品進行掃描，獲得各個被加工位置的實時圖像，從而實現對加工過程的實時監控。

聚焦離子束掃描電子顯微鏡主要功能包括:

①電子束成像，用於定位樣品、獲取微觀結構和監測加工過程;

②離子束刻蝕，用於截麵觀察和圖形加工;

③氣體沉積，用於圖形加工和樣品製備;

④顯微切割製備微米大小納米厚度的超薄片試樣(厚度小於＜100 nm)，用於後續的TEM和同步輻射STXM等相關分析;

⑤顯微切割製備納米尺寸的針尖狀樣品，用於後續的APT分析，獲取其微量元素和同位素信息;

⑥綜合SEM成像、FIB切割及EDXS化學分析，對試樣進行微納尺度的三維重構分析等。